<詳細な用途>
酸化ビスマス :触媒、電子材料(フェライト、誘電体、圧電体)など
酸化錫 :触媒、電子材料(フェライト、誘電体、圧電体)、ターゲット材、ガラス添加剤、研磨剤、表面処理
酸化第二銅 :電子材料(フェライト、誘電体、圧電体)、ターゲット材、ガラス添加剤、表面処理
四三酸化コバルト:触媒、二次電池、電子材料(フェライト、誘電体、圧電体)、ガラス添加剤
<日本化学産業株式会社の製造技術>
<粒径・粒度分布制御>
反応系での粒径制御、物理的な粒径制御など様々な制御技術を有しており、微細化、均一化、造粒化など様々なご要望
にお応えいたします。
<比表面積制御>
反応活性、反応制御などの様々な反応技術により比表面積を制御しご要望にお応えいたします。
<高純度化>
分離・精製による高純度化技術により微量不純物の低減が可能でご要望にお応えいたします。